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真空等离子清洗机中的技术原理,你了解吗?
点击量:510     时间:2020-06-08
   你知道吗?等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态3种状态存在,但在一些特殊的情况下可以以第四种状态存在,如太阳表面的物质和地球大气中电离层中的物质。这类物质所处的状态称为等离子体状态,又称为物质的第四态。现在,或许有很多人都已经使用到真空等离子清洗机了,那么你对它的等离子清洗技术了解得如何?
  
  等离子体清洗技术zui大特点即是:不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
  
  等离子清洗技术起源于20世纪初,随着高科技产业的快速发展,其应用越来越广,等离子体清洗主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。
  
  随着科学技术的发展,各种器件越做越jin密,那么对于清洗的要求也越来越高,特别是在芯片制造、成像及显示等领域,如手机摄像头、晶圆、电容屏、柔性屏等,对于表面微污染物的要求较高,甚至表面不能残留纳米级的颗粒。由于污染物体积小、成分复杂且通常表面要求不能存在有机残留,这时真空等离子清洗机的作用就更能够体现出来。等离子清洗机所产生的等离子体能够将有机污染物分子链打断,使分子结构中的元素与基体脱离,脱离后的元素与等离子体中的自由基发生化学反应,进行分子重组,形成无害气体排出,以达到表面清洁的目的。

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