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真空等离子体处理工艺,影响清洗效率的参数

发布时间:2021-11-15      点击次数:146
  在等离子体清洗工艺当中,影响清洗效率的参数主要有以下几个方面:
  (1)放电气压(真空度):对于低压等离子体,放电气压增加,等离子体密度越高,电子温度随之降低。而等离子体的清洗效果取决于其密度和电子温度两个方面,如密度越高清洗速率越快、电子温度越高清洗效果越好。因此,放电气压的选择对低压等离子体清洗工艺至关重要。
  (2)气体种类:待处理物件的基材及其表面污染物具有多样性,而不同气体放电所产生的等离子体清洗速度和清洗效果又相差甚远。因此应该有针对性地选择等离子体的工作气体,如可选用氧气等离子体去除物体表面的的油脂污垢,选用氢氩混合气体等离子体去除氧化层
  (3)放电功率:放电功率增大,可以增加等离子体密度和活性粒子能量,因而提高清洗效果。例如,氧气等离子体的密度受放电功率的影响较大。
  (4)暴露时间:待清洗材料在等离子体中的暴露时间对其表面清洗效果及等离子体工作效率有很大影响。暴露时间越长清洗效果相对越好,但工作效率降低。并且,过长时间的清洗可能会对材料表面产生损伤。
  (5)其他:等离子体清洗工艺中的气体分配、气体流量、电极设置等参数也会影响清洗效果。因此需要根据实际情况和清洗要求设定具体的、适合的工艺参数
  在实际的工作中,选择合适的工艺参数至关重要,需要将各种影响因素综合考量和运用。不能简单的将参数独立使用。
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