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等离子清洗常见的清洗方式都有哪些呢?

发布时间:2022-06-06      点击次数:58
  等离子清洗技术已经逐渐渗透到我们的生活和工作中,并悄悄地改变了人们的生活质量。随着等离子表面处理技术的快速发展,清洗机已广泛应用于光学玻璃、汽车制造、纺织面料、电子电器、包装印刷、塑料加工、化妆品等行业。
  
  等离子体的清洗方式分为化学清洗、物理清洗和物理加化学清洗。对于不同的清洁对象,可选择O2、H2和Ar等艺术气体进行短时间表面处理。
  
  一、什么是化学反应清洗:
  
  它采用等离子中的高活性自由基和材料表层的有机物进行化学反应,采用氧气清洗,使非挥发性有机物变成挥发性形式,产生二氧化碳,一氧化碳和水。化学清洗的优势是清洗速度高,选择性好,对清洗有机污染物质更有效的。
  
  主要缺点是产生的氧化物可能会在材料表层再次形成。在导线键环节中,氧化物这一些缺点可以通过适当的工艺参数来避免。
  
  二、什么是物理反应清洗:
  
  利用等离子中的离子进行纯物理冲击,清除附着在材料表层的原子,氩气用于清洁,氩气用足够的能量轰击器件表层,足以清除产品表面的污垢。例如:聚合物中的大分子被分离成小分子并蒸发,并通过真空泵排出。
  
  同时,氩气等离子清洗后,可以改变材料表层的微观形式,使材料在分子级范围内变得更加粗糙,可以大大提高表面活性,提升表层的粘结性能。
  
  氩气等离子的优势是清洁材料表层不会留下任何氧化物。缺点是过度腐蚀或污染物质颗粒可能在其他不希望区域重新积累,但这一些缺点可以通过详细调整工艺参数来控制。
  
  三、在清洗过程中,可同时清洗物理化学进行反应:
  
  物理反应和化学反应在清洗中起着关键作用。如果在线等离子清洗环节中采用O2混合气体,反应速率比单独采用Ar或O2快。氩离子加速后,产生的动能可以提升氧离子的反应能力,因此物理化学方法可以清除污染严重的材料表层。
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