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苏州半导体晶圆等离子清洗机
产品简介:

苏州半导体晶圆等离子清洗机原理:通过对工艺气体施加电场使之电离化成为等离子体。等离子体的“活性"组成包括:离子、电子、原子、自由 活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子处理就是通过利用这些活性组分的性质来氧化、还原、裂解、交联和聚合等物理和化学反应改变样品表面性质,从而优化材料表面性能,实现清洁、改性、刻蚀等目的。

产品型号:

更新时间:2025-09-18

厂商性质:生产厂家

访 问 量 :578

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产品介绍


提高材料的导电性能:等离子清洗后的材料表面,能够去除表面的杂质和氧化物,从而提高材料的导电性能。

等离子清洗机广泛应用于各个领域,如:

- 电子行业:提高电子元器件的附着力和导电性能。

- 汽车制造:提高汽车零部件的耐腐蚀性和附着力。

- 医疗器械:提高医疗器械表面的无菌性和生物相容性。

- 航空航天:提高航空航天器材的表面性能和耐腐蚀性。

总之,等离子清洗机是一款非常实用的设备,能够大大提高产品的质量和性能

真空等离子主机

设备尺寸

L1000×W900×H1750mm

重量

500Kg

需求电源

AC380V,50/60Hz,5线,30A

等离子发生器规格

电源功率

射频

中频

0~600W

0-1000W

电源频率

13.56MHz

40 KHz

真空系统

真空泵

飞越双级旋片泵(油泵):60m3/h

真空管路

全不锈钢管路,以及高强度真空波纹管

材质

铝合金

厚度

25mm

密封性

军工级焊接密封

腔体内部尺寸

450×450×500mm(宽×高×深)

电极板有效尺寸

410×400mm(宽×深)

可用空间间距

100mm

电极板布置方式

竖直电极板

工作托盘

标配一套,材质可选配(铝材、304不锈钢

工作空间

2 6个空间

工艺气体

流量范围

0~300SCCM

工艺气体气路

标配两路,可定制

控制系统

系统控制

PLC

交付方式

7寸触控屏幕



等离子清洗机原理:通过对工艺气体施加电场使之电离化成为等离子体。等离子体的“活性"组成包括: 离子、电子、原子、自由 活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子处理就是通过利用这些活性组分的性质来氧化、还原、裂解、交联和聚合等物理和化学反应改变样品表面性质,从而优化材料表面性能,实现清洁、改性、刻蚀等目的。


苏州半导体晶圆等离子清洗机

在等离子清洗机中,摄像头模组被放置在清洗室中,通过等离子体的作用,将模组表面的污垢和有机物分解成无害的气体和水。由于等离子体的高能量,清洗效果非常明显,可以将模组表面的污垢和有机物去除,使其恢复原有的光洁度和透明度。同时,等离子清洗机的清洗过程非常快速,可以在短时间内完成清洗,提高生产效率。

厂务规格要求

厂务规格要求

交流电源规格

电源:AC380V,50/60Hz,5线,16A

厂务排气

流量:2.0 m³/min

厂务工作气体要求

流量:1~10 L/min

压力:3~7 kg/cm²

管径:6×4 mm

材质:PU管

纯度:99.99%以上

厂务压缩空气要求

流量:1~10 L/min

压力:3~7 kg/cm²

管径:8×5 mm

材质:PU管

露点:-40℃以下

Particle>0.3μm:10Pcs/ft³

除了普通的等离子清洗机外,还有一种宽幅等离子清洗机,可以同时清洗多个摄像头模组。宽幅等离子清洗机采用连续清洗的方式,可以在一次清洗中同时清洗多个模组,提高了清洗效率和生产效率。同时,宽幅等离子清洗机还具有自动化控制系统,可以实现全自动清洗,减少人工干预,提高清洗质量和稳定性。





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