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光学镀膜椭偏仪

简要描述:光学镀膜椭偏仪ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。

  • 产品型号:ME-L
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-04-25
  • 访  问  量:2374

详细介绍

价格区间10万-30万产地类别国产

名   称:光学镀膜椭偏仪

型   号:ME-L 

品   牌:颐光

 

光学镀膜椭偏仪在手机盖板中的应用

光学镀膜就好比女士化妆,不仅可使玻璃盖板、背板更漂亮,也可以起到抗氧化、耐酸碱等作用,所以在如今这个“看脸”的时代,盖板的光学镀膜是非常重要的,目前常见的包括AR、AF、AG及后盖颜色膜等镀膜应用。

 光学镀膜椭偏仪盖板光学镀膜痛点分析

1、AR膜透过率不合格NG

2、颜色膜调色困难,周期长。

3、量产过程产品不稳定,存在色差。

椭偏仪在光学镀膜各阶段的作用

造成盖板光学镀膜产品不良的主要因素在于:

A;仿真设计调用材料折射率与镀膜生产中实际材料折射率不符。

B;镀膜设备实际镀层厚度与膜系设计要求不符。

C;量产过程对镀膜设备稳定性/均匀性缺乏有效评估手段。

椭偏仪可以有效测量修正上述影响因子,为盖板量产保驾护航。

1:膜系设计——膜层实际折射率的标定

★镀膜实际折射率的影响因素:供氧量、真空度、电子枪光斑大小、温度等

★椭偏仪可直接测量获得薄膜材料的光学常数和薄膜厚度,因此通过镀膜机在Si衬底或玻璃衬底上镀单层SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜,可直接准确测量获得薄膜的光学常数。

★通过调整镀膜机参数,以椭偏仪测量获得的单层SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜光学常数为反馈,将薄膜材料光学常数调整至状态。此时对应的镀膜机参数即为厚度镀膜时所需设定的终参数。

2:工艺研发——镀膜设备tolling校正

★通常来说,镀膜机通过晶振来控制镀膜厚度,而实际上由于这种晶振式膜厚仪的精度不足,导致实际镀膜厚度与设定镀膜厚度存在较大偏差。在镀膜机中,可通过工具因子(Tooling值)控制镀膜机的蒸镀速率,进而可对实际镀膜厚度进行调控。

★椭偏仪可以准确测量获得薄膜的厚度,因此可用于校正镀膜机的工具因子(Tooling值),使实际镀膜厚度与设定镀膜厚度*。

3;量产监控——实时监测各项镀膜指标

★镀膜膜厚是否在设计范围。

★材料折射率有无显著波动。

★透过率是否满足工艺需求。

★色度值是否满足工艺需求。

★反射率是否满足工艺需求。

 

光学镀膜椭偏仪售后服务:

1、厂家货源正品

   货源有保障,可以根据客户不同测试需求,提供不同测试方案。

2、关于售后

   4小时电话响应,24小时内安排上门服务。终生维护。

3、关于发货

   到款4-5天内到货,江苏、深圳区域第二天可以到货。

 

 

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